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【获取途径】
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【作者】周毅，周艳霞，李伟，熊健
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【作者单位】西藏大学理学院
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【年份】2014
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【卷号】第15期
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【页码】89-91，121
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【ISSN】1001-9677
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【关键词】纳米高度标准样品 Cr薄膜 平整度 磁控溅射
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【摘要】
研究以金属Cr为例进行。采用射频磁控溅射法,在Si/SiO2及玻璃基底上溅射制备了不同参数的Cr薄膜,研究了不同溅射功率、沉积气压、靶基距等参数对Cr膜的影响,以满足纳米台阶高度标准样品的制备需要,为标样的化学稳定性提供了保
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【文献类型】
期刊
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